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华虹NEC: 华虹NEC与Synopsys携手开发参考设计流程2.0

上传:大音唏嘘     来源:信息存储服务     日期:2006-10-13

[摘要]  
   华虹NEC和Synopsys联合开发的参考设计流程2.0助设计人员应对时序闭合的挑战,降低风险并实现复杂的系统级芯片(SoC)的预期成功。该流程采用具有RTL合成、物理实现和签证功能的 Galaxy设计平台,以及包括RTL仿真VCS®解决方案的Discovery验证平台
 
[正文]    

   全球领先的电子设计自动化(EDA)软件工具领导厂商Synopsys 与中国最先进的集成电路制造商之一上海华虹NEC电子有限公司今日宣布,双方将携手开发应用于华虹NEC 0.18微米工艺的参考设计流程 2.0华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后,将充分利用Synopsys Professional Services开发基于Synopsys Galaxy™设计平台和Discovery™ 验证平台,以及华虹NEC I/O和标准单元库的完整RTL-to-GDSII参考设计流程。

   华虹NEC和Synopsys联合开发的参考设计流程2.0助设计人员应对时序闭合的挑战,降低风险并实现复杂的系统级芯片(SoC)的预期成功。该流程采用具有RTL合成、物理实现和签证功能的 Galaxy设计平台,以及包括RTL仿真VCS®解决方案的Discovery验证平台。参考设计流程2.0的最新功能包括Jupiter-XT™ 设计规划解决方案具备的增强型平面,以及DFT MAX 和 TetraMAX®工具具备的可测试设计(DFT)和自动测试图形生成(ATPG)能力。

   华虹NEC-Synopsys 参考设计流程2.0还采用Synopsys完整的集成电路部署解决方案,包括RTL合成、测试、功率优化和物理设计。此外,参考设计流程2.0还包括用于整个芯片功率分析的PrimePower、用于最终设计签证的PrimeTime® SI、Star-RCXT™ 和 Hercules™ 解决方案,以及Formality® 等效检查器。通过采用DesignWare® 库可以实现广泛的设计兼容性和IP验证。

   华虹NEC设计服务部高级总监李向阳表示:“这一解决方案将帮助我们的客户提供高性能低风险的半导体产品。Synopsys的Galaxy设计平台和Discovery验证平台与我们成熟的标准元件库相结合,将有助于我们的客户解决复杂的设计问题,同时满足对产品上市时间的苛刻要求。”

   Synopsys战略市场开发部副总裁Rich Goldman表示:“华虹NEC需要成熟的硅设计流程来帮助其客户实现复杂SoC设计的预期成功。因此,我们双方一直在密切合作以保证Synopsys的设计流程与华虹NEC的硅工艺实现无缝整合,为我们共有的客户提供经过测试的RTL-to-GDSII 解决方案。我们希望未来可以与上海华虹NEC继续保持良好的合作,共同开发更多先进的硅技术。” 

流程发布

   从即日起,客户可以通过华虹NEC的客户经理申请华虹NCE-Synopsys参考设计流程2.0

关于上海华虹NEC电子有限公司

   华虹NEC是中国一家纯营晶圆代工企业,为国内外的客户提供专业的高附加值的代工服务。其提供广泛的CMOS技术工艺,包括用于智能卡IC制造、通信、消费电子产品和计算机产品中的逻辑、射频、混合信号、嵌入式非易挥发存储器、HV、BCD等。华虹NEC为其客户提供24小时一流的技术支持和服务,包括各类IP、代工主流工艺设计、版图设计、晶圆测试、参数测试、可靠性测试和时效性分析。华虹NEC同时也通过其合作伙伴提供掩膜版制作和封装服务。华虹NEC先后通过了ISO9001质量管理体系、ISO14001环境管理体系和BS7799信息安全管理体系认证,因此具有更高的产品品质和信息安全性。更多详情,请访问:http://www.hhnec.com

   (新闻稿 2006-10-13)


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