40nm台积电
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[新闻图片]台积电: 40nm工艺难题终解决 质量堪比65nm水平！
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      据有关消息报道，台积电表示困扰已久的40nm工艺良品率问题已经解决，质量上现在基本和早已成熟的65nm工艺处于同一水平。困扰台积电40nm工艺的主要难题是所谓的设备腔体接合(Chamber Matching)，但现在都已成为历史，不过没有透露具体的良品率数值，应该还要看生产的是什么芯片。    另外，台积电... 		下一张 40nm台积电 下一张